




氦質(zhì)譜檢漏儀的基本原理與結(jié)構(gòu)
隨著科技的迅猛發(fā)展,氦質(zhì)譜檢儀及其應(yīng)用技術(shù)也在不斷發(fā)展和究善。各國(guó)的設(shè)備廠商相繼推出了多種類烈的氦質(zhì)譜檢涮儀,廣泛應(yīng)用丁航空航天,電力電子,汽車等各個(gè)行業(yè),綜觀較新氦質(zhì)譜檢漏儀的性能特點(diǎn)發(fā)現(xiàn),氦質(zhì)譜檢漏儀正向著高靈敏度、自動(dòng)化、寬程、等先進(jìn)方向發(fā)展,這些特點(diǎn)很好地滿足了當(dāng)前檢漏應(yīng)用的需求,也極大的推動(dòng)了氮質(zhì)譜檢漏技術(shù)的不斷發(fā)展。氦質(zhì)譜檢漏儀的基本原理與結(jié)構(gòu)氦質(zhì)譜檢漏儀一般由質(zhì)譜管,真空系統(tǒng)和電子系統(tǒng)組成。逆擴(kuò)散系統(tǒng)檢漏儀與常規(guī)系統(tǒng)相比,被檢件只與低真空相通,因此只需將被檢工件抽至低真空就能進(jìn)行檢漏,氦氣是逆擴(kuò)散到質(zhì)譜管,不會(huì)對(duì)系統(tǒng)有污染,因此被廣泛采用,已成為市場(chǎng)的主流的產(chǎn)品。其中質(zhì)譜管包括離子源,質(zhì)量分析器和離子檢測(cè)器; 真空系統(tǒng)一般由分子泵、機(jī)械泵、電磁閥和真空計(jì)組成。離子源的作用是將原子電離成帶電離子并聚焦成束,以一定能量注入質(zhì)分析器,
目前常用的電子轟擊型離子源有尼爾型和震蕩型兩種形式。質(zhì)分析器的作用起將各類離子按其質(zhì)荷比的不同實(shí)現(xiàn)分離。
離子檢測(cè)器的作用是手機(jī)質(zhì)量分析器所選定的氦離子流并加以放大,再通過(guò)比對(duì)運(yùn)算,得出泄漏率
真空系統(tǒng)的作用是獲取質(zhì)譜過(guò)程所需的真空,同時(shí)完成被檢件的抽空和氦氣的引入。真空系統(tǒng)一般由分子泵、機(jī)械泵、電磁閥和真空計(jì)組成組成。按照真空系統(tǒng)的不同結(jié)構(gòu),檢漏儀分為常規(guī)系統(tǒng)和逆擴(kuò)散兩種。逆擴(kuò)散檢漏是把被檢件接在分子泵出氣口一端,漏入的氦氣由分子泵出氣口逆著泵的排氣方向進(jìn)入安裝在泵的進(jìn)氣口端的質(zhì)譜管內(nèi)而被檢測(cè)。常規(guī)系統(tǒng)多用于早期的氦質(zhì)譜檢漏儀,該種檢漏儀的被檢件與高真空部分直接相通,由被檢件泄入的氮?dú)馐紫鹊竭_(dá)質(zhì)譜管被檢到,因而具有較高的靈敏度,但是會(huì)對(duì)質(zhì)譜管有污染。逆擴(kuò)散系統(tǒng)檢漏儀與常規(guī)系統(tǒng)相比,被檢件只與低真空相通,因此只需將被檢工件抽至低真空就能進(jìn)行檢漏,氦氣是逆擴(kuò)散到質(zhì)譜管,不會(huì)對(duì)系統(tǒng)有污染,因此被廣泛采用,已成為市場(chǎng)的主流的產(chǎn)品。
機(jī)械泵的工作方式不一樣,分為干泵檢漏儀和油泵檢漏儀,油泵工作會(huì)有油霧排出,污染工作環(huán)境,干泵沒(méi)有油霧排出對(duì)工作環(huán)境沒(méi)有影響。在半導(dǎo)體潔凈車間都是使用干泵檢漏儀。


氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)
檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度,正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測(cè)時(shí),在漏點(diǎn)處噴射氦氣5~10s后,檢漏儀就發(fā)生響應(yīng),對(duì)于如此龐大的真空系統(tǒng),其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。
檢漏時(shí)噴槍在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍,該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間,即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間,當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。筆者根據(jù)實(shí)測(cè)經(jīng)驗(yàn),兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右,即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒(méi)有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。今天科儀創(chuàng)新小編和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏的工作原理,希望對(duì)您有所幫助。
清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同,但由于儀器零件對(duì)氦的吸附和脫附作用的影響,清除時(shí)間一般要更長(zhǎng)些。筆者測(cè)算,在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間約須1分鐘;背壓法的檢漏標(biāo)準(zhǔn)主要有QJ3212-2005《氦質(zhì)譜背壓檢漏方法》、GJB360A-1996《電子及電氣元件試驗(yàn)方法方法112密封試驗(yàn)》,主要應(yīng)用于各種電子元器件產(chǎn)品檢漏。在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間約須2分鐘;在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間在3分鐘左右。
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氦質(zhì)譜檢漏儀的工作原理
今天科儀創(chuàng)新的小編和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏儀的工作原理,希望對(duì)您有所幫助!
氦質(zhì)譜檢漏儀是一種以氦氣作為示漏氣體專門用于檢漏的質(zhì)譜分析儀器。其基本工作原理是采集被檢件中的氣體樣品并將其電離,根據(jù)不同種類氣體離子質(zhì)荷比不同的特點(diǎn),利用磁偏轉(zhuǎn)分離原理將其區(qū)分開來(lái)。氫氣有些性能(如質(zhì)量小、易通過(guò)漏孔)比氦還好,然而由于氫一方面有易1爆危險(xiǎn),另一方面在油擴(kuò)散泵中,由于油受熱裂解會(huì)產(chǎn)生大量的碳和氫,使氫本底極高且波動(dòng)大,以致靈敏度大大降低,所以很少采用。儀器對(duì)其示漏氣體氦氣有響應(yīng)信號(hào),而對(duì)其他氣體沒(méi)有響應(yīng),從而檢漏。
氦質(zhì)譜檢漏儀的環(huán)境條件
氦質(zhì)譜檢漏儀是現(xiàn)在比較常用的儀器,今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家來(lái)說(shuō)一下,氦質(zhì)譜檢漏儀的使用環(huán)境條件有哪些,希望對(duì)您有所幫助!
校準(zhǔn)環(huán)境溫度為(23 ± 5) ℃ ,校準(zhǔn)過(guò)程中室溫變化不超過(guò)± 1℃ ,環(huán)境相對(duì)濕度不大于80% 。
校準(zhǔn)設(shè)備周圍應(yīng)無(wú)明顯的溫差、氣流和強(qiáng)電磁場(chǎng)等外部干擾。
環(huán)境溫度較好控制在23℃ 附近,因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)漏孔的出廠標(biāo)稱漏率對(duì)應(yīng)的環(huán)境溫度一般為23℃ 。